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二氧化硅磨料制造方法

一种二氧化硅磨料的制备方法_百度文库

本发明公开了一种二氧化硅磨料的制备方法，它以水玻璃为原料，包括初纯、晶种制备、增加粒径和纯化四个步骤：初纯是将水玻璃稀释到SiO. (19)中华人民共和国国家知识产权局. (12)发明 2020年12月29日本发明公开了一种二氧化硅磨料的制备方法，它以水玻璃为原料，包括初纯、晶种制备、增加粒径和纯化四个步骤：初纯是将水玻璃稀释到SiO2含量不高于15％，过滤，经一种二氧化硅磨料的制备方法.pdf

一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程 - X技术网

2021年12月11日 7.针对现有技术存在的二氧化硅磨料存在使用寿命短，抛光效率低等问题，本发明提出了一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途，采用分段碱催化和恒液面聚合生长法， 2016年4月1日通过傅里叶变换红外光谱、热重分析仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜和N 2 吸附-解吸对得到的同素异形二氧化硅 (s SiO 2 / m SiO 2 )样品进行表征。通过原子力含有实心核和介孔壳的二氧化硅磨料：SiO 2 薄膜的合成 ...

固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...

2017年11月28日包含固体二氧化硅（sSiO 2）核和中孔二氧化硅（mSiO 2）壳的二氧化硅基复合磨料颗粒由于其特殊的机械和/或化学特性，在高效且无损伤的化学机械抛光（CMP）中具 2010年1月1日胶体二氧化硅可以通过各种方法和起始材料制备，包括含水硅酸盐的离子交换、硅化合物的水解和缩合、硅的直接氧化以及二氧化硅粉末的研磨和胶溶。胶体二氧化硅各种制备方法的比较研究,Engineering - X-MOL

一种自组装纳米二氧化硅磨料及含有该磨料的抛光液和应用的 ...

2021年11月17日本发明提供上述自组装磨料的制备方法，以及利用该自组装纳米二氧化硅磨料制备的抛光液。本发明通过纳米颗粒的自组装生长，制备了一种新型的二氧化硅磨料，用于蓝宝 2023年8月22日 1965年Monsanto首次提出化学机械抛光技术，即在磨盘和研磨料的作用下，先通过抛光浆料的化学作用使材料表面薄层软化，随后在磨料、磨盘及抛光垫的机械作用下将其李薇薇博士：纳米二氧化硅的制备及在CMP中的应用（报告）

一种二氧化硅磨料的制备方法 - X技术网

本发明涉及一种磨料的制备方法，更具体说是一种二氧化硅的磨料的制备方法。背景技术：二氧化硅磨料是电子工业用的抛光物的主要成分，如国家知识产权局2005年7月27日公开的“含甲 2021年12月11日 48.第二方面，本发明提供一种纳米二氧化硅磨料，由第一方面提供的纳米二氧化硅磨料的制备方法得到。49.本发明提供的纳米二氧化硅磨料，形状为近球形，表面无不规则点，并且具有优化的内部结构，确保了产品的一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程

碳化硅检测项目及相关标准和方法磨料金属氧化镁二氧化硅 ...

2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。3 天之前在生产蓝宝石和硅晶片、冶金样品制备和医疗植入物抛光中很常见。 C.M.P 工艺使用细二氧化硅颗粒和基于胶体碱的 PH 值的氧化能力组合的化学反应，通常达到小于 2nm表面光洁度。传统研磨工艺不同的是磨料从基材上切割二氧化硅胶体在表面处理中的应用 - 科密特科技（深

碳化硅的制备及应用最新研究进展 - 汉斯出版社

2024年10月15日碳化硅具有强度大、硬度高、弹性模量大、耐磨性好、导热性强和耐腐蚀性好等优异性能，被广泛地应用于磨料磨具、陶瓷、冶金、半导体、耐火材料等领域。常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。2022年6月1日而在先进工艺节点中需要兼顾高去除速率与低缺陷率，因此研究非球形二氧化硅磨料的制备方法 ... [0048] 芯片制造过程中常常需要采用化学机械平坦化(cmp)工艺，cmp 工艺利用化学反应和机械摩擦的双重作用，选择性的去除芯片经沉积 ...非球形的二氧化硅颗粒及其制备方法和抛光液

一种氧化铈磨料制备方法及其CMP抛光应用与流程

本发明涉及一种氧化铈磨料制备方法及其CMP抛光应用。背景技术氧化铈因对二氧化硅具有较高的抛光活性，且在较低的固含量下就可达到高的抛光效果，使其作为磨料在化学机械抛光液领域备受关注。比如，以氧化铈作为磨料应用于浅沟槽隔离(STI)工艺抛光已有大量报道(如专利201310495424.5，200510069987. ...2009年2月18日专利名称：铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制作方法技术领域：本发明涉及抛光液，尤其涉及一种铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液。背景技术：随着集成电路的集成度越来越来高，铝作为互连材料越来越来显示出其不足之处，而铜具有底电阻率，底的电迁移率是代替铝作为互联 ...铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制作方法

具有低磨料浓度和化学添加剂组合的浅沟槽隔离（STI）化学 ...

2020年10月2日具有低磨料浓度和化学添加剂组合的浅沟槽隔离（STI）化学机械平面化（CMP）抛光的制作方法 ... 如表3结果所示，在与仅使用二氧化铈涂覆的二氧化硅磨料的参比样品或在抛光组合物中仅使用单一类型的化学添加剂的参比样品相比 ...2021年11月24日 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法，尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，属于研磨抛光材料的生产制备技术领域。背景技术： 2.研磨抛光剂或通常所说的研磨抛光液，是不同于固结磨具、涂覆磨具的另一类“磨具”，是一种将磨料在分散剂中均匀、游离分布所形成的“磨具”，研磨 ...二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程

一种碳酸钙/二氧化硅核壳型纳米复合磨料及其制备方法和应用 ...

2020年11月13日图5为二氧化硅磨料抛光后的硅片afm 图像。具体实施方式下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本发明 ...2019年11月18日纳米 SiO2浆料中半导体硅片的化学机械抛光及其应用研究摘要随着集成电路 (IC)的快速发展，对衬底材料硅单晶抛光片表面质量的要求越来越高，化学机械抛光(CMP)是目前能实现全局平面化的唯一方法。研究硅片CMP技术中浆料性质、浆料与硅片 ...纳米二氧化硅浆料中半导体硅片的化学机械抛光及其应用研究 ...

碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾

3 天之前 Yamamura 等提出了一种利用常压等离子体辐照加工材料的新方法，即等离子体辅助抛光技术（ Plasma Assisted Polishing， PAP ），其原理是使用等离子体对碳化硅衬底进行辐照，通过羟基自由基来氧化碳化硅衬底表 2023年8月11日针对常规离子交换法难以制备出纯度高、粒径均匀的大粒径胶体SiO2磨料的国际技术难题，提出了一种改进的离子交换法，通过低阴离子浓度水玻璃制备技术、硅酸酸化技术和多步离子交换相结合的方法制备高纯硅酸；通过pH值、温度、浓度等多参数调控合成出30-150nm均匀胶体SiO2磨料，并通过表面改性 ...电子级二氧化硅纳米磨料和抛光液 _科创中国

二氧化硅材料如何加工？ - 知乎

2024年5月5日二氧化硅（SiO2）是一种常见的无机材料，具有广泛的应用领域，包括光学、电子、光纤通信、催化剂等。以下是一些常见的二氧化硅材料加工方法： 1. 制备石英玻璃： - 熔融法：将高纯度二氧化硅粉末或石英砂加热到高温，使其熔化并冷却形成石英玻璃坯料。2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。碳化硅检测项目及相关标准和方法二氧化硅氧化镁碳化硅 ...

胶体二氧化硅各种制备方法的比较研究,Engineering - X-MOL

2010年1月1日胶体二氧化硅可以通过各种方法和起始材料制备，包括含水硅酸盐的离子交换、硅化合物的水解和缩合、硅的直接氧化以及二氧化硅粉末的研磨和胶溶。通过这些方法制备的各种粒径为10-60 nm的硅溶胶及其制备方法，从其形状、尺寸均匀性、球形度、对pH变化的稳定性、阳离子浓度和价格等方面进行 ...二氧化硅生产工艺流程-结论：通过深入探讨二氧化硅的生产工艺流程，我们更加全面了解了从原材料选择与处理到成品制备的关键步骤。二氧化硅作为一种重要的材料，在不同领域具有广泛的应用，并且随着科学技术的不断发展，其前景还将进一步拓展。二氧化硅生产工艺流程 - 百度文库

二氧化硅的生产方法和制作工艺流程，常用原料有哪些 - 百家号

2024年6月13日二氧化硅的制造方法有多种，包括沉淀法、溶胶-凝胶法、气相法等。不同方法所得产品的纯度、颗粒大小、形态等有所不同，应根据具体应用领域选择适合的制造方法。未来，随着科技的不断进步和环保要求的提高，二氧化硅的制造方法将会不断得到优化和改进。2021年11月17日 1.本发明涉及一种基于自组装纳米二氧化硅磨料的抛光液，尤其涉及一种磨料的自组装方法，属于精细化工技术领域。背景技术： 2.随着led行业的发展，芯片衬底逐步向大尺寸、高品质方向发展。其中，蓝宝石晶片是当前led行业常见的衬底片，蓝宝石为氧化铝单晶材料的通用术语，具有极好的化学 ...一种自组装纳米二氧化硅磨料及含有该磨料的抛光液和应用的 ...

二氧化硅粉末烧结 - 百度文库

4.高温装备：二氧化硅烧结体具有较高的耐高温能力，可以用于制造高温装备，如炉窑、耐火材料等。5.磨料工具：二氧化硅烧结体具有较高的硬度和强度，可以用于制造磨料工具，如砂纸、砂轮等。总结：二氧化硅粉末烧结是一种常用的加工方法，可以2011年4月25日二氧化硅是目前 IC生产中应用最广泛的层间介质，为满足光刻的要求，必须采用化学机械抛光（CMP）工艺对介质表面进行平整化加工，分析了二氧化硅介质 CMP 机理过程，指出了磨料是影响去除速率及表面状态的关键因素，并以自制纳米二氧化硅水溶胶配制抛光浆料进行 CMP 实验研究，采用这种高 ...纳米磨料在二氧化硅介质CMP 中的作用分析 - 豆丁网

固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...

2017年11月28日抛光结果表明，用所获得的二氧化硅基复合磨料精加工后的基材，相对于具有可比粒度的常规固体二氧化硅颗粒而言，具有更高的表面质量。此外，二氧化硅壳中组织的改善有助于CMP过程中表面质量和机械稳定性的改善。另外，sSiO 2与相同CMP条件 ...2021年2月25日激光激活化学气相沉积(ILCVD)也是气相法中制备纳米SiO2的有效方法。该法比较容易制备出晶态和非晶态纳米粒子，产物纯度高、分散度高、粒子细而且成球形，表面羟基少，因而具有优异的补强性能，且具有清洁、无壁效应、粒度分布均匀、无粘结、产量高、可连续生产及应用广泛等优点。纳米二氧化硅的制备 - 知乎

耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用 - 豆丁网

2024年1月13日本发明提供了一种成本低、工艺简单、过程可控、可规模化生产的磨擦型二氧化硅的制备方法，该方法制得的磨擦型二氧化硅具有稳定性好，对其他物体的磨损程度可控、清洁力好的优势，适合作为牙膏的磨料。权利要求书1页说明书10页附图1页 ...3 天之前第一个禁止二氧化硅喷砂的国家英国在 1948 年颁布了《工厂法案》，这一法案激发 Norman Ashworth 发明了第一个湿式磨料喷砂柜。1966 年，欧洲共同市场（欧盟的前身）成员国也纷纷效仿，推动了另一轮创新，生产了第一台移动式磨料喷砂机。二氧化硅粉尘和湿式磨料喷砂职业安全与健康管理局 ...

氧化铝抛光液磨料制备及其稳定性研究进展 - 豆丁网

2015年9月28日目前市场上使用最为广泛的几种磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。 SiO2抛光液选择性、分散性好,机械磨损性能较好,化学性质活泼,并且后清洗过程处理较容易;缺点为在抛光过程中易产生凝胶,对硬底材料抛光速率低[2]。CeO2抛光液的优点是抛光速率高,材料去除 ...2024年3月8日图2 为不同浓度Y3+ 改性的硅溶胶磨料的SEM 图和 EDS 图. 纯二氧化硅磨料(见图2(a)) 和掺杂二氧化硅磨料(见图2(b)»(e)) 均为球形, 这意味着Y3+ 掺杂改性并未改变二氧化硅颗粒的原始形状. 也就是说, 这些Y3+ 掺杂胶体二氧化硅颗粒具有清晰的球形结构.Y 掺杂二氧化硅磨料的合成及其在氧化锆陶瓷中的化学机械 ...

二氧化硅悬浮液的制作方法 - X技术网

2012年10月24日本发明涉及一种悬浮液，尤其涉及一种二氧化硅悬浮液。背景技术二氧化硅的含水浆液或悬浮液已应用于许多领域，特别是耐火材料、造纸、混凝土工业。目前各行业使用的二氧化硅悬浮液都希望具有较高的固含量，而高固含量的悬浮液通常具有较高的粘度，造成使用困难，且储存时间受到限制，有 ...2020年8月25日作者提出的增材制造方法可生产出高精度和形状高保真度的二氧化硅气凝胶物体，并具有其他功能和出色的材料特性，特别是超低导热率和高介孔性。 3D打印过程避免了减法制造的问题，并为二氧化硅气凝胶开辟了新的应用领域。Nature: 加法制造二氧化硅气凝胶!3D打印绝缘、热管理和 ...

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